小型離子濺射儀通過(guò)高能離子轟擊靶材表面,使其原子或分子脫離并沉積在基底上形成薄膜,其技術(shù)方法涵蓋設(shè)備操作、工藝控制、材料選擇及安全維護(hù)等多個(gè)方面,具體如下:一、設(shè)備操作流程開(kāi)機(jī)準(zhǔn)備打開(kāi)水冷系統(tǒng),確保冷卻水循環(huán)正常。檢查氣路連接,使用氬氣或氮?dú)庾鳛楣ぷ鳉怏w(黃金靶材可用空氣,其他靶材建議惰性氣體)。啟動(dòng)真空泵,將真空室抽至工作真空(通常為2-8Pa),極限真空需低于1Pa。樣品與靶材安裝打開(kāi)真空室,放入樣品臺(tái)并調(diào)整與靶材的距離(建議20mm左右)。安裝靶材(如金、鉑、銀等),確...
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